根据7月17日的Kuai Technology，光刻机器的负责人ASML宣布，已经发送了高级EUV，这是世界上最强大的光刻机器。根据官方声明，EXE：5200是第一代ASML高一代EXE生成：5000的改进版本。第一批买家是英特尔，该购买者的出售方式近30亿元。与第一代相比，NA EUV光刻机器高EXE：5000和EXE：5200具有更高的晶圆性能（EXE：5000以每小时185个单位），从而可以更好地支持2NM工艺的批量生产。 Twinscan EXE：5000和EXE：5200均提供0.55的数值开口。这在以前的EUV光刻计算机的0.33的数值开放透镜上的精度得到了改善，从而可以为较小的晶体管功能提供更高的分辨率模式。 EUV 0.55 NA ISDESIGN，以允许其在2025年的第一个开发中的多个未来节点，然后采用类似的密度内存技术。应当指出的是，不可能将这台高端光刻的机器出售给中国制造商。这不是金钱问题，这是另一个因素。 [本文的结尾]如果您需要重印，请务必向我们展示您的来源：Kuai技术编辑：Xuehua